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レーザーウィンドウ
W1、W2

  • サンプル容器や真空チャンバのウィンドウに

  • 高ゲインレーザーのアウトプットカプラに

  • 非コート面のフレネル反射による
    アクロマティックビームサンプリングに
    R  4 %(垂直入射において)
    Rs 10 %(S- 偏光の45 °入射において)
    Rp  1 %(P- 偏光の45 °入射において)

  • CVIメレスグリオの全ての低損失、高損傷しきい値
    AR コーティングを施す事が可能

  • ミラーマウントを別売にてご用意

仕様:レーザーウィンドウ


減反射コーティング







コーティング
密着性と耐久性

有効径
入射角度
損傷しきい値
パルス







CW
材質

透過波面エラー
表面品位



直径の公差
厚みの公差
平行度
面取り

 
単一波長 R ≦0.25 % / 面
(0°入射において)
広 帯 域 Ravg ≦0.50 % / 面
(0°入射において)
二波長用 R ≦0.3 %
(@1064 nm、0°入射において)
二波長用 R ≦0.6 %
(@532 nm、0°入射において)
電子ビーム誘電体多層膜
MIL-C-675 C による。
溶剤による非溶解性のテスト
直径中心の85 % 以上
ユーザーにより指定

単一波長 15 J/cm2、20 nsec、20 Hz
(パルス @1064 nm )
広 帯 域 10 J/cm2、20 nsec、20 Hz
(パルス @1064 nm )
二波長用 5 J/cm2、20 nsec、20 Hz
(パルス @532 nm )
二波長用 10 J/cm2、20nsec、20 Hz
(パルス @1064 nm )
1 MW/cm2、(CW @1064 nm )
UV グレード フューズドシリカ、
UV グレード CaF2 、および BK7
λ/10(@633 nm )
10-5 スクラッチ&ディグ
 (フューズドシリカ、BK7 の場合)
20-10 スクラッチ&ディグ
 (CaF2 の場合)
φ+0/−0.25 mm
t±0.25 mm
≦10 秒、≦5 分、または 30 分±5 分
0.35 mm 、45°(φ≦50.8 mm の場合)
0.85 mm 、45°(φ>50.8 mm の場合)




1064 nm 用 V-タイプARコーティングの反射率




減反射コート付きウィンドウ




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